Die Hasselblad Masters Awards sind entschieden. Wie der Ausrichter des Wettbewerbes, der Kameraproduzent Hasselblad mitteilt, erhielten folgende Fotografen und Fotografinnen eine Auszeichnung in einer der zehn ausgelobten Kategorien:

Editorial: Nina Berman, NYC, USA
Nachwuchspreis: Lyle Owerko, NYC, USA
Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
Fashion: Dirk Rees, London, England
Landschaft: Bang Peng, Hong Kong
Produkt: Mark Holthusen, San Francisco, USA
Fine Art: Quentin Shih, Beijing, China
Allgemein: Mark Zibert, Toronto, Canada
Architektur: Stephan Zirwes, Stuttgart, Germany
Hochzeit: Joao Carlos, NYC, USA

Aus etwa 3.000 Einsendungen – fast doppelt so viele wie im Vorjahr – wurden 100 Finalisten ausgewählt, unter denen Juroren wie Steve McCurry (USA), Anton Corbijn (Niederlande) und Tim Flach (UK) die Gewinner auserkoren. Maßstab waren dabei die Kreativität, Komposition, Konzeption und technische Innovation der Arbeiten.

Hasselblad zeigt die Bilder nicht nur auf seiner Website, sondern wird die besten Fotos aus dem Jahr 2009 auch in einem Buch unter dem Motto „Emotion“ veröffentlichen. Auch als Ausstellung werden die Arbeiten präsentiert, die wahrscheinlich zur photokina 2010 in Köln zu sehen sein wird.

Hier einige der Gewinneraufnahmen: 

Master 2009, Editorial, © Nina Berman, NYC, USA

Master 2009, Fine Art. © Quentin Shih, Beijing, China

Master 2009, Portrait. © Claudio Napolitano, Miami /Caracas

Master 2009, Landschaft. © Bang Peng, Hong Kong

Master 2009, Nachwuchs. © Lyle Owerko, NYC, USA